オートトラッカ

AT-III

◆ メーカーや波長を問わずナノ秒波長可変レーザと組み合わせ可能
◆ 広い波長範囲： 198〜4000 nm
◆ 柔軟性の高いモジュラ構成
◆ アプリケーション： 多光子イオン化、吸収分光、反応動力学、レーザ誘起蛍光、共鳴イオン分光

INRAD, a PPGI Company 社のオートトラッカ AT-III は、非線形結晶を用いてパルスレーザの周波数ミキシングを自動で行えるように設計された独立型サーボシステムです。非線形結晶の角度と位相整合角を自動調整でき、レーザ波長走査に合わせて自動的に周波数ミキシングします。また柔軟性の高いモジュール型で、オプションの非線形結晶を様々にマウントすることで広い範囲にわたる周波数ミキシング、周波数ダブリングが可能で、非線形結晶に応じて 198 nm 〜 4.0 μm 範囲で出力できます。
AT-III は、ハンドコントロールユニットとオプティクス＆自動コントロールユニットで構成されます。コントロールユニットは、センサからのフィードバック信号に基づいて位相整合結晶の位置を自動で調整します。コントロールユニットには RS-232 ポートがついていますので、外部コンピュータからの操作も可能です。
AT-III は、メーカーを問わず様々な色素レーザや固体レーザと組み合わせてお使いいただけます。繰返し周波数は 10 Hz 〜 数十 MHz まで、パルス幅はサブピコ秒からナノ秒まで対応可能です。また占有面積は 20 x 30 cm 以下と小型ですので、種々のレーザと組合わせたシステムを構築する際に便利です。組合わせ方の詳細は、下の テクニカルインフォメーション を ご参照ください。

Model	AT-III-UV	AT-III-NIR	AT-III-IR
Datasheet Download	Click HERE !（PDF）
Wavelength Generated	198~470 nm	1300~1600 nm	1200~4000 nm
Repetition Rate	5 Hz ~ 100 MHz	5 Hz ~ 100 MHz	1 Hz ~ 200 Hz
● Laser Requirement
Repetition Rate	> 5 Hz
Beam Diameter	< 10 mm
Peak Power	> 5 kW
● Performance
Scanning Rate	0.1 nm/sec max
BeamDither	< 0.1 mrad
Wavelength Range	198 nm through 4000 nm
Output Stability	±1 %（constant input）
Tunable Tilt Range	±12.5 %
BBO Tilt Range	up to ±22.5 %
● Dimensional Data（click HERE to see outline drawing）
Optical Assembly	17. 1 cm x 19.9 cm x 28.3 cm（6.75" x 7.84" x 11.3"）
Hand Held Controller	19.1 cm x 10.2 cm x 5.1 cm（7.5" x 4.0" x 2.0"）
Optical Centerline 　with Standard Support Legs 　with Optional Support Legs 　with Platform Mounting	10.9 cm（4.25"）above horizontal base plate 16.1〜19.0 cm（6.31"〜7.50"） 17.3〜20.3 cm（6.81"〜8.00"） 17.7〜20.7 cm（6.95"〜8.15"）
Utility Requirements	0.5 A

NOTE：
* All units will operate with the common voltage of 110V/60Hz, 100V/50Hz, or 220V/50Hz without modification.
＊AT-III 本体の UV/IR 変換キットもご用意しております。詳しくは （株）インデコの営業部 までお問合せください。

＊仕様は予告なく変更になる場合がございます。 （必要な波長に応じて別途必要です）

Model	BBO-TSS		BBO-TST
Crystal	BBO		BBO
Wavelength Coverage（±15°）	636~1000 nm → 318~500 nm	（906~2100 nm） +（453~1050 nm） → 302~700 nm	496~675 nm → 248~337 nm	（710~960 nm） +（355~480 nm） → 237~320 nm
Process	SHG	THG	SHG	THG
Model	BBO-0		BBO-1
Crystal	BBO		BBO
Wavelength Coverage（±15°）	418~464 nm → 209~232 nm	（600~665 nm） +（300~331 nm） → 200~220 nm	454~560 nm → 227~280 nm	（651~800 nm） +（325~400 nm） → 217~266 nm
Process	SHG	THG	SHG	THG
Model	BBO-2		BBO-A
Crystal	BBO		BBO
Wavelength Coverage（±15°）	542~820 nm → 271~410 nm	（774~1165 nm） +（387~582 nm） → 258~388 nm	410~433 nm → 205~216 nm	（594~620 nm） +（297~310 nm） → 198~206 nm
Process	SHG	THG	SHG	THG
Model	BBO-B		BBO-C
Crystal	BBO		BBO
Wavelength Coverage（±15°）	448~543 nm → 224~271 nm	（642~77 5nm） +（321~358 nm） → 214~258 nm	423~480 nm → 211~240 nm	（608~687 nm） +（304~343 nm） → 203~229 nm
Process	SHG	THG	SHG	THG
Model	BBO-OPO1		BBO-OPO2
Crystal	BBO		BBO
Wavelength Coverage（±15°）	549~844 nm → 275~422 nm	（784~1200 nm） +（392~600 nm） → 262~400 nm	440~525 nm → 220~262 nm	（632~750 nm） +（316~375 nm） → 211~250 nm
Process	SHG	THG	SHG	THG
Model	KDP-A	KDP-B	KDP-B1	KDP-R6G
Crystal	KDP	KDP	KDP	KDP
Wavelength Coverage（±12°）	518~535 nm → 259~267 nm	531~595 nm → 266~297 nm	524~571 nm → 262~285 nm	559~673 nm → 280~336 nm
Process	SHG	SHG	SHG	SHG
Model	KDP-C	KDP-D	KDP-M2
Crystal	KDP	KDP	KDP
Wavelength Coverage（±12°）	585~754 nm → 293~377 nm	648~940 nm → 324~470 nm	543~648 nm → 272~324nm	1064 nm +（294~383 nm） → 231~281 nm
Process	SHG	SHG	SHG	mixing
Model	KDP-M3		KD*P-M1
Crystal	KDP		KD*P
Wavelength Coverage（±12°）	520~557 nm → 260~278 nm	1064 nm +（273~307 nm） → 217~238 nm	1064 nm +（421~1000 nm） → 302~515 nm
Process	SHG	mixing	mixing-Type�U
Model	LiNbO3-A	LiNbO3-B	LiNbO3-C
Crystal	LiNbO3	LiNbO3	LiNbO3
Wavelength Coverage（±12°）	（561~607 nm） - 1064 nm → 1188~1412 nm	（597~603 nm） - 1064 nm → 1362~1828 nm	（657~841 nm）- 1064 nm → 1716~4000 nm
Process	IR mixing	IR mixing	IR mixing

NOTE：
* All BBO crystals have a protective coating of MgF₂.
＊各結晶には別途 結晶セル が必要です。

＊仕様は予告なく変更になる場合がございます。 （使用する結晶に応じて別途必要です）

Model	CB-4S	CB-4T	CB-1	CB-3
Crystal	BBO	BBO	KDP, KD*P, LiNbO3	KDP "M2" & "M3"
Application	SHG	THG, SFM	SHG near UV, Sum Frequency Generation, Difference Frequency Mixing	deep UV frequency generation

＊仕様は予告なく変更になる場合がございます。 （必要な波長に応じて別途必要です）

Output	Relative Filter	Relative Filter（In Line）	Color Filter
198〜220 nm	FR-4	FR-4L	none
217〜235 nm	FR-2	FR-2L	none
235〜270 nm	FR-1	FR-1L	none
270〜310 nm	FR-φ	none	FC-1
310〜340 nm	FR-φ	none	FC-2
340〜350 nm	FR-φ	none	FC-2（2 each）
350〜410 nm	FR-φ	none	FC-3 + FC-5
410〜470 nm	FR-φ	none	FC-3 + FC-7
233〜300 nm	FR-TSTHG	FR-TSTHG	none
350〜470 nm	FR-TSSHG	FR-TSSHG	none
265〜325 nm	FR-5	FR-5L	none
1200〜4200 nm	FR-φ or none		FC-6（2 each）

NOTE：
* An FR-φ is supplied with each unit as part of the optical assembly, and therefore does not have to be ordered separatly. Similarly, the appropriate set of neutral density filters is supplied with each unit as part of the optical assembly. There is a UV neutral density filter set and an IR neutral density filter set.

＊仕様は予告なく変更になる場合がございます。 （出力波長と元の波長の分離に別途必要です）

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Model	Description	Application	Description
752-104	UV Harmonic Separator	Separates UV from visible and IR	Four prism filter, enclosed in housing with adjustable legs. Accepts horizontal polarization for UV wavelength to be separated.
752-105/12S	IR Separator for DFM of 1064 & 720~880 nm → 2.23~5.0 μm	Separates long wavelength generated from mixing Nd:YAG and dye	Combination of dielectric filters and silicon or germanium plates, enclosed in housing with adjustable legs. Accepts horizontal polarization for IR wavelength to be separated.
752-105/13S	IR Separator for DFM of 1.064 & 590~720 nm → 1.32~2.23 μm
752-105/14S	IR Separator for DFM of 1064 & 564~615 nm → 1.20~1.45 μm
752-105/42S	IR Separator for DFM of 532 & 720~880 nm → 1.35~2.03μm	Separates long wavelength generated when mixing doubled Nd:YAG and dye
752-105/43S	IR Separator for DFM of 532 & 590~720 nm → 2.03~5.00 μm
752-105/idler	IR Separator for DFM of 1.064 & 1450~1800 nm → 2.60~4.00 μm	Separates long wavelength when mixing Nd:YAG and OPO idler
BH-2013	Harmonic Reflector, R → 340~375 nm, T @ 500~580 & 1064 nm	Separates 340~375 nm, typically used when mixing Nd:YAG and OPO signal as alternate to doubling degeneracy.	Four reflectors needed for optimum separation. Use Inrad A-6380 mounts to hold reflectors. No enclosure.
BH-2014	Harmonic Reflector, R → 650~770 nm, T @ 1300~1440 nm	Separates visible from IR, typically used when doubling OPO idler	Four reflectors needed for optimum separation. Use Inrad A-6380 mounts to hold reflectors. No enclosure.

＊仕様は予告なく変更になる場合がございます。 （周波数ミキシングに別途必要です）

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Model	BC-2001	BC-2002	BC-2003	BC-2004
T	1064 nm	1064 nm	1064 nm	1064 nm
R	277~317 nm	310~362 nm	550~625 nm	625~740 nm
Size	1 1/2"（dia.） x 3/8"
Notes	use A-6450 mount to hold beam combiners
Model	BC-2005	BC-2008	BC-2009	BC-2010
T	1064 nm	585~725 nm	700~900 nm	1064 nm
R	740~860 nm	532 nm	532 nm	233~300 nm
Size	1 1/2"（dia.） x 3/8"
Notes	use A-6450 mount to hold beam combiners
Model	BC-2011	BC-2012	BH-2013	BH-2014
T	1064 nm	1.45~2.0 μm	1064 nm 500~580 nm（p）	1.30~1.44 μm
R	510~567 nm	1064 nm	430~375 nm	650~770 nm
Size	1 1/2"（dia.） x 3/8"
Notes	use A-6450 mount to hold beam combiners
Model	BC-2015	BC-2016	BC-2017
T	532 nm（s）	532 nm（s）	1.19~1.45 μm（p）
R	320~380 nm（s）	380~440 nm（s）	1064 nm（s）
Size	1 1/2"（dia.） x 3/8"
Notes	use A-6450 mount to hold beam combiners

＊仕様は予告なく変更になる場合がございます。


＊その他必要に応じて高さ調節用足、偏光ローテータ、ジンバルマウント などが別途必要な場合がございます。詳細は （株）インデコの営業部 までお問合せください。 非線形結晶チューニングレンジ
システム構成のためのセレクションガイド （英語）
標準的なシステム構成 （英語）

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Copyright（c） INRAD, a PPGI Company, 2010